普发真空(Pfeiffer Vacuum)HiPace 系列涡轮分子泵

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摘要

普发真空 Pfeiffer HiPace 系列涡轮分子泵,搭载成熟 Holweck 级设计,抽速大、压缩比高,实现洁净无油高真空环境。具备低振动低噪音特性,支持多方位安装,启动速度快。内置驱动与故障诊断功能,可选耐腐蚀涂层,维护简便。适配半导体、真空镀膜、质谱科研等场景,多种 ISO-K、CF 法兰可选,是高真空系统可靠主力泵源。

产品介绍

普发真空Pfeiffer VacuumHiPace 系列涡轮分子泵,属于高真空获得设备。这类泵通过高速旋转的涡轮叶片将气体分子排出,可实现超高真空环境(极限真空度可达 10⁻¹⁰ mbar 级别),广泛应用于半导体制造、真空镀膜、科学研究(如粒子物理实验)等领域,是构建高真空系统的核心设备之一。


普发 HiPace 涡轮分子泵


涡轮分子泵的抽速曲线(性能曲线)图。

图中展示了不同气体(N₂、He、H₂、Ar)在不同压力(p,单位 hPa)下的抽速(S,单位 l/s)变化关系,用于直观体现涡轮分子泵对不同气体的抽气性能,是评估和选择涡轮分子泵的重要技术参考。


普发 HiPace 涡轮分子泵


普发真空(Pfeiffer Vacuum)涡轮分子泵的机械图纸,属于高真空设备的技术资料。图纸标注了尺寸参数(如 119.5、Ø86 等)、接口规格(HV DN 63 ISO-K、VV DN 16 ISO-KF)及安装特征(M5 螺纹孔),用于指导该涡轮分子泵的生产、安装及与真空系统的集成,保障其在半导体、科学研究等场景中实现高真空环境的构建,是涡轮分子泵工程应用的关键技术文件。


普发 HiPace 涡轮分子泵



请根据您的个性化需求选择合适的产品变体,查看对应产品详情。普发真空 HiPace 系列涡轮分子泵型号丰富,法兰、抽速、轴承类型多样可选,满足不同真空工况。拥有高抽速、高压缩比,运行低噪低振,洁净无油。内置驱动与故障诊断,可选耐腐蚀涂层,适配镀膜、半导体、质谱科研等高真空场景。


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