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普发真空 ATH 2300 M 涡轮分子泵，开启真空新境界！ 普发真空 ATH 2300 M 涡轮分子泵，凭借先进技术，实现超高抽速，能迅速达到高真空度，满足各类严苛需求。低振动、低噪音设计，运行稳定安静。结构紧凑且耐用，维护简便。为科研、半导体等领域， 提供可靠真空保障，值得信赖！
普发真空 ATH 1600 M 涡轮分子泵，性能卓越。采用先进技术，抽气速度快，能高效营造高真空环境 。结构紧凑耐用，维护便捷。适用于科研、半导体制造等多种领域。选择它， 为您的真空需求提供稳定可靠的解决方案，开启高效真空作业新体验。
德国普发 HiPace 700 P 涡轮分子真空泵，N₂抽速 670 l/s、Ar 抽速 650 l/s，压缩比超 1×10¹¹，达＜1×10⁻⁷ hPa 极限真空，适配半导体涂层等场景。IP54 防护、4 年保养间隔，支持任意安装，低噪远程监控，获 S2 等认证，普发原厂售后，工业真空优选。
普发真空 HiPace 800 H 涡轮分子真空泵，氮气抽速达 800 L/s，极限真空 <1×10⁻¹⁰ mbar。钛合金转子轻量抗腐，60000 rpm 高稳运转，噪音仅 55 dB (A)。适配半导体、质谱分析等领域，支持远程运维，维护间隔 10000 小时，是高端真空场景优选。
HiPace 800 P 涡轮分子真空泵，氮气抽速达 800 L/s，极限压力低至 10⁻¹⁰ mbar，轻松实现超高真空环境。机身紧凑省空间，低功耗降运维成本，抗干扰设计保障连续稳定运行。适配半导体制造、真空镀膜、科研实验等场景，能精准满足严苛真空需求，是工业与科研领域的高效可靠之选！
普发真空 HiPace 350/450 涡轮分子真空泵，体积小巧轻便却性能强劲，N₂抽速分别达 300、380 l/s，对小分子气体抽速与压缩比卓越。采用复合轴承设计，免维护运行可达 5 年，支持任意方向安装。集成多通信接口，运行安静，获多重认证，广泛适用于半导体、质谱分析等多领域。
HiPace 1200/1500 涡轮分子真空泵，抽速分别达 1200/1500 L/s，极限真空度达 10⁻¹⁰ mbar，适配半导体、科研、航空航天领域。创新叶片设计降噪至 55dB，MTBF 超 2 万小时，支持多接口且易安装。通过 ISO 9001 认证，提供 7×24 小时技术支持与...
HiPace 300 Plus 涡轮分子真空泵，是高真空领域优质之选！氮气抽速达 260l/s，快速建立真空环境；氮气 / 氩气压缩比超 10¹¹、氢气达 9×10⁵，稳保工况稳定。仅重 6.7kg 且支持任意方向安装，适配科研与工业场景；集成驱动控制器，兼容远程监控，操作便捷，助力高效作业！
德国普发 HiPace 700 M 磁悬浮涡轮分子泵，685 l/s 氮气抽速搭配 < 7.5x10⁻⁸ torr 极限真空。5 轴磁悬浮轴承实现无油低振（45 dBA）、免维护运行，支持任意方向安装。IP54 防护 + 半导体认证，适配镀膜、半导体及粒子加速等场景，RS485 智能监控...
德国普发 HiPace 400 P 涡轮分子真空泵，工业级高真空解决方案。355 L/s 抽速搭配 < 1×10^-7 mbar 极限真空，抗粉尘 P 系列设计适配半导体、涂层工艺。IP54 防护 + SEMI 认证，复合轴承 4 年低维护，紧凑机身支持多角度安装，12 个月质保护航稳定生产。
德国普发真空 HiPace 800 M 磁悬浮涡轮分子泵，5 轴磁悬浮技术实现无油洁净运行，氮气抽速达 790 l/s，极限压力低至 < 5×10⁻¹⁰ hPa。零维护设计，低振动静音，获 Semi S2 与 IP54 认证。支持任意角度安装，库，适配半导体、镀膜及精密研发，10 万小时...
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