普发真空(Pfeiffer Vacuum)的涡轮分子泵
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摘要
普发真空(Pfeiffer Vacuum)涡轮分子泵 作为涡轮分子泵,普发真空的这款核心设备是高 / 超高真空场景。采用磁悬浮或复合轴承技术,搭配专利激光平衡工艺,无油清洁、低噪低振,抽速 10-2800L/s,极限真空达 10⁻¹¹hPa。智能控温与远程监控功能适配自动化需求,广泛应用于半导体、科研实验、工业镀膜等领域,为精密工艺提供稳定可靠的真空保障。
产品介绍
普发真空(Pfeiffer Vacuum)的涡轮分子泵,采用磁悬浮轴承等技术,具备高抽速、低振动、长寿命等优势,在真空获得领域技术,广泛应用于科研、半导体等对真空环境要求严苛的场景。

规格和技术参数


抽速和尺寸图

普发真空 HiPace 1200 涡轮分子泵(配 TC 1200 控制器)多接口规格安装尺寸图。它展示了 DN 200 ISO-K、ISO-F、CF-F 三种法兰接口型号的正、侧、俯多视角尺寸标注,为半导体制造、科研实验等场景的设备布局、管路对接提供数据,是工程设计与现场安装的关键技术文件。

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