普发分子泵 HiPace700H
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摘要
普发分子泵 HiPace700H 是高真空系统核心设备，N₂抽速达 685L/s，对 He、H₂、Ar 等气体抽排，极限压力低至 7.5×10⁻⁸托。集成驱动控制器，支持强制风冷与水冷，适配 ISO 160-K 入口法兰，广泛应用于半导体制造、科研实验等场景，干泵设计免维护，稳定可靠。
产品介绍
普发分子泵 HiPace700H
普发真空（Pfeiffer Vacuum）生产的 HiPace 系列涡轮分子泵。
HiPace 系列涡轮分子泵凭借其高抽速、能达到高真空和超高真空的性能，广泛应用于半导体制造、分析仪器（如质谱仪 ）、科研实验（像材料科学研究、物理实验）、镀膜等领域。通过高速旋转的转子对气体分子施加作用力，使气体分子定向移动，从而实现抽气，满足各类对真空度要求苛刻的应用场景。
HiPace700H 分子泵核心特点
抽速强劲：N₂抽速达 685L/s，对 He、H₂等轻气体抽排效率优异，适配高 / 超高真空系统。
性能稳定：极限压力低至 7.5×10⁻⁸托，耐受大气暴露，长期运行数据波动小。
适配灵活：支持强制风冷 / 水冷双散热，配 ISO 160-K 入口法兰，兼容多种真空系统。
运维便捷：干泵设计无油污染，集成驱动控制器，安装调试简单，维护成本低。
场景广泛：覆盖半导体制造、科研实验、真空镀膜等领域，适配精密真空工艺需求。
HiPace 700H 作为普发真空 HiPace 700 系列的 H 款，核心优势是压缩比更高，尤其适配轻质气体，其详细技术参数整合自官方及授权经销商资料，具体如下：
基础套件说明：
HiPace700H 外形尺寸
控制类配件
TC 400 驱动单元：作为核心控制配件，自带 RS485 通讯接口和远程操作接口，还配有两个配件端口，可控制散热风扇或电磁放空阀，保障泵体稳定运行。
DCU 400 显示单元：常搭配驱动单元使用，附带连接线缆，方便用户直观查看泵的运行参数，实现现场操作与状态监控。
Omnicontrol 400 控制器：可选的台式或机架式配件，既能供电又能通过 RS485 通讯实现泵的监控与控制，适合实验室场景。
散热类配件
水冷套件：部分机型标配，适配设备水冷需求，保障高负荷运行时的温度稳定。
强制风冷套件 / 冷却风扇：可选配件，可满足不同工况下的散热需求，适配无需水冷的简易安装场景。
连接与防护类配件
专用连接线缆：用于驱动单元、显示单元与泵体的连接，是设备通电和信号传输的配件。
入口过滤网：可选配件，能过滤杂质，避免异物进入泵体内部损伤核心部件，延长使用寿命。
电磁放空阀：可与驱动单元的配件端口连接，便于设备停机或维护时的安全放空操作。
运维与辅助类配件
TurboViewer 软件存储棒：配套的软件工具，方便用户进行设备参数调试、运行数据记录与故障排查。
轴承与密封件：作为易损耗配件，包括混合轴承系统相关部件、O 型圈、密封垫等，用于定期维护更换，保障泵的密封性能和运转稳定性。
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