普发分子泵HiPace80 Neo

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关键词: 普发分子泵

摘要

【普发真空 HiPace 80 Neo 分子泵】作为新一代真空获得设备,抽速强劲、极限真空度高,采用创新技术实现低振动、低噪音运行,适配半导体、科研等精密场景。结构紧凑、维护便捷,为高真空系统提供稳定、清洁的抽气解决方案,是追求与可靠性的真空应用。

产品介绍

普发分子泵HiPace80 Neo

普发真空(Pfeiffer Vacuum)生产的 HiPace 系列涡轮分子泵

涡轮分子泵是获得高真空或超高真空的重要设备,通过高速旋转的转子,将气体分子驱向排气口,从而实现抽气功能。HiPace 系列涡轮分子泵在半导体制造、分析仪器、镀膜、科研等对真空度要求较高的领域有着广泛应用 ,它具有抽速快、极限真空度高、运行稳定等特点。


普发分子泵


概述


用于在所有情况下的安装

理想适用于可靠系统集成

广泛的配件扩展使用范围

具有最高 67 l/s 对于 N2 抽吸能力的小型、高性能涡轮泵

集成驱动电子装置 TC80

普发真空 HiPace 80 Neo 分子泵技术资料

核心技术参数

抽速性能:氮气(N₂)抽速最高达 67 L/s,极限真空度优异,满足高真空应用需求。

运行参数:转子最高转速 90,000 / 分钟,支持任意方向安装,适配多样化集成场景。

结构尺寸:采用紧凑设计,体积小、重量轻,配备 DN 40/63 ISO-KDN 63 CF-F 等可选法兰接口。

核心技术亮点

专利激光平衡技术:通过激光烧蚀精准修正转子质量分布,振动水平降低 20%,噪音极小,适配电子显微镜等振动敏感设备。

复合轴承系统:前级端油润滑陶瓷球轴承搭配高真空端永磁径向轴承,坚固耐用,稳定性强。

智能温控与防护:集成转子温度测量系统,外壳最高耐温 80℃,宽温工作范围,传感器实时监测保障安全运行。

低耗免维护设计:采用高性能抗老化润滑剂,配合连续过滤技术,实现五年免维护运行,降低使用成本。

适配接口与控制

接口配置:自带 Access Link 智能接口,可自动识别配件,搭配 TC 80 集成式电子驱动单元,支持多模式操作。

控制方式:兼容无操作单元运行、多功能接口 “X3” 控制及普发真空专用显示控制单元,启动快速,调试便捷。

典型应用场景

适用于质谱仪、电子显微镜、检漏仪RGA 系统、加速器、等离子清洗、3D 打印及氦气稀释等场景,涵盖实验室科研、工业自动化等领域,可集成于固定式、移动式及便携式设备。

产品订购信息普发分子泵


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