ATP 1603M 涡轮分子泵
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摘要
ATP 1603 M 真空阀，DN 200 CF-F 接口适配工业场景，搭载 OBC V4 系统支持远程操控，无需手动值守更。非加热设计适配低温工况，5 组核心辅助组件强化密封性能与流通稳定性。控压、响应迅速，适配爱德华 / 莱宝等品牌真空泵，广泛用于半导体、光伏等领域，兼具可靠性与便捷性，是工业真空系统的配件。
产品介绍
普发真空（Pfeiffer Vacuum）ATP 1603M 涡轮分子泵。
它属于涡轮分子泵品类，是实现超高真空环境的关键设备，广泛应用于半导体制造、科学研究等对真空度要求极高的领域。
核心应用场景
广泛适配半导体制造、光伏、航空航天及科研实验等领域，可用于真空镀膜、蚀刻、CVD/PVD 设备及真空测试系统，满足高真空环境下的流体控制需求。
核心产品特性
搭载 OBC V4 电子驱动系统，支持 Remote、RS-232/RS-485 等多协议远程操控，无需现场值守。
DN 200 CF-F 标准法兰接口，采用 316L 不锈钢 + 无氧铜垫片设计，密封可靠且适配主流真空系统。
非加热设计适配 - 30℃至 80℃工况，5 组辅助组件强化结构稳定性与密封耐久性。
核心技术参数
接口规格：DN 200 CF-F 标准法兰，支持多协议通信（EtherCAT®/Profibus 可选）。
控制方式：OBC V4 电子驱动，支持远程监控与指令下发，实时反馈运行状态。
结构配置：非加热设计 + 5 组辅助密封组件，标准化结构便于安装与维护。
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