普发分子泵 HiPace2300

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关键词：普发分子泵 HiPace2300

摘要

德国普发 HiPace 2300 涡轮分子泵，抽速高达 2300L/s，集成 TC1200 驱动与水冷散热，IP54 防护、低振动长寿命。适配半导体、真空镀膜、科研实验室等超高真空场景，智能监控运行稳定、易维护，德国精工品质，是真空系统的核心设备。

产品介绍

普发分子泵 HiPace2300

普发真空（Pfeiffer Vacuum）生产的 HiPace 系列涡轮分子泵。

HiPace 系列涡轮分子泵凭借高速旋转的转子对气体分子施加作用力，使气体分子定向移动，从而实现抽气，以获得高真空或超高真空环境。该系列产品被广泛应用于半导体制造、表面分析、科学研究（如材料科学、物理实验等）、镀膜等众多领域，能满足这些领域对高真空度的严格要求，具有抽速快、极限真空度高、运行稳定可靠等特点。

普发分子泵 HiPace2300

普发 HiPace 2300 涡轮分子泵为德国原厂机型，抽速达 2300L/s，适配超高真空场景。配备智能驱动、水冷，低振动、高稳定、IP54 防护，运行可靠、寿命长、易集成维护，广泛用于半导体、真空镀膜、科研实验室，是真空系统核心。

规格和技术叁数

普发 HiPace 2300 涡轮分子泵规格参数（100 字）

核心性能：N₂抽速1900L/s、He 抽速2000L/s、极限真空 **<1×10⁻⁷mbar**，N₂压缩比 **>1×10⁸**

接口：进气 DN250 ISO-F/CF-F、排气 DN40 ISO-KF

配置：TC1200 集成驱动、水冷散热、IP54 防护、36kg、转速31500rpmPfeiffer Vacuum+Fab Solutions

优势：低振动、长寿命、智能监控，适配半导体 / 镀膜 / 科研超高真空场景

抽速和尺寸图

普发分子泵 HiPace2300

普发真空（Pfeiffer Vacuum）HiPace® 2300 涡轮分子泵搭配 TC 1200 控制器、DN 250 ISO - K 接口的尺寸图纸。HiPace 系列涡轮分子泵常用于需要高真空环境的场景，如半导体制造、科研实验等，通过这样的配置，可满足相关真空系统的连接与控制需求。

普发分子泵 HiPace2300

普发真空（Pfeiffer Vacuum）HiPace® 2300 涡轮分子泵搭配 TC 1200 控制器，不同接口（DN 250 ISO - F、DN 250 CF - F）的尺寸图纸。HiPace 系列涡轮分子泵常用于需要高真空环境的领域，如半导体制造、科学研究等，通过不同的接口类型（ISO - F、CF - F 等）来适配不同的真空系统连接需求，以实现抽气，达到高真空或超高真空的条件。

普发分子泵 HiPace2300