HiPace 800 H涡轮分子真空泵

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摘要

普发真空 HiPace 800 H 涡轮分子真空泵,氮气抽速达 800 L/s,极限真空 <1×10⁻¹⁰ mbar。钛合金转子轻量抗腐,60000 rpm 高稳运转,噪音仅 55 dB (A)。适配半导体、质谱分析等领域,支持远程运维,维护间隔 10000 小时,是高端真空场景优选。​

产品介绍

HiPace 800 H涡轮分子真空泵


HiPace 800 H涡轮分子真空泵

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HiPace 800 H涡轮分子真空泵


技术规格ISO


HiPace 800 H涡轮分子真空泵


抽速


HiPace 800 H涡轮分子真空泵


普发真空 HiPace 800 H 涡轮分子真空泵,凭借800 L/s 氮气抽速与 **<1×10⁻¹⁰ mbar 极限真空 ** 的卓越性能,稳居高端真空设备第一梯队。搭载高效永磁电机,转速高达 60000 rpm,配合精密动平衡技术,运行噪音低至 55 dB (A),实现高速运转下的超稳表现。采用轻量化钛合金转子,重量较传统不锈钢转子减轻 30%,同时提升抗腐蚀能力,适配严苛真空环境。

技术与适配亮点

设备集成智能温控系统,可实时监测电机与轴承温度,避免过热损伤;标配 RS485/Profinet 通信接口,轻松接入工厂自动化系统,支持远程参数设置与故障诊断,契合工业 4.0 运维需求。广泛应用于半导体晶圆制造、真空镀膜、质谱分析、粒子物理实验等领域,其高抽速与低极限真空特性,能快速建立稳定真空环境,提升工艺效率。

成本与服务优势

优化的轴承设计使维护间隔延长至 10000 小时,减少停机维护成本;模块化结构便于快速检修,降低维修难度。依托普发真空全球服务网络,提供 24 小时技术支持与原厂备件供应,同时设备符合 CEUL 等国际认证,保障使用安全合规,是高端制造与科研领域的可靠真空伙伴。

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