HiPace 800 P涡轮分子真空泵
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HiPace 800 H涡轮分子真空泵
摘要
HiPace 800 P 涡轮分子真空泵，氮气抽速达 800 L/s，极限压力低至 10⁻¹⁰ mbar，轻松实现超高真空环境。机身紧凑省空间，低功耗降运维成本，抗干扰设计保障连续稳定运行。适配半导体制造、真空镀膜、科研实验等场景，能精准满足严苛真空需求，是工业与科研领域的高效可靠之选！
产品介绍
HiPace 800 P涡轮分子真空泵
技术规格ISO
抽速
HiPace 800 P 涡轮分子真空泵，是专为高要求超高真空场景打造的高效设备，凭借卓越性能成为工业与科研领域的优选。其核心性能亮眼，氮气抽速可达 800 L/s，远超同级别多数产品，能快速建立真空环境；极限压力低至 10⁻¹⁰ mbar，精准满足半导体制造、真空镀膜、精密科研等对真空度要求严苛的场景，保障工艺稳定性与实验准确性。
在使用体验上，这款真空泵优势显著。机身采用紧凑设计，体积小巧不占过多安装空间，适配各类车间与实验室布局；低功耗运行模式，相比传统设备能耗降低约 15%，长期使用能大幅减少运维成本。同时，它搭载抗干扰防护系统，可有效抵御电压波动与环境杂质影响，连续运行故障率低于 0.5%，为生产与实验的不间断推进提供可靠保障。
从适配场景来看，HiPace 800 P 覆盖范围广泛。在半导体行业，能满足晶圆刻蚀、薄膜沉积等工序的超高真空需求；在科研领域，适配粒子物理实验、材料表面分析等精密研究；在工业制造中，也可用于高端光学元件镀膜、航空航天部件真空检测等环节。此外，产品通过 CE、ISO 双重认证，配备专业售后团队，提供 1 年质保与 7×24 小时技术支持，让客户采购与使用更安心，是兼顾性能、效率与保障的优质真空解决方案。
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