HiPace 80 Neo涡轮分子真空泵

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关键词：涡轮分子真空泵

摘要

普发真空 HiPace 80 Neo，凭专利 Laser Balancing™实现 5nm 级低振动，适配电子显微、质谱分析。复合轴承 + 新润滑剂达五年免维护，紧凑机身易集成，micro-USB 三步启动、兼容多法兰，极限真空 10⁻⁷~10⁻¹¹Pa，适配半导体镀膜。享 12 个月质保，高精度长寿命，是科研工业高性价比之选。

产品介绍

HiPace 80 Neo涡轮分子真空泵

涡轮分子真空泵

技术规格ISO

涡轮分子真空泵

抽速

涡轮分子真空泵

HiPace 80 Neo 涡轮分子真空泵 —— 超高真空领域的解决方案来自普发真空的 HiPace 80 Neo 涡轮分子真空泵，凭借专利 Laser Balancing™激光平衡技术，将转子动平衡品质提升 20%，振动水平低至 5nm 级，成为电子显微术、质谱分析等振动敏感领域的理想选择。相较于传统设备，其运行噪音显著降低，配合集成转子温度测量系统，可实时监控设备状态，确保在 80℃外壳温度范围内始终保持性能，为精密实验提供稳定真空环境。

创新的复合轴承设计是设备可靠性的核心保障：前级真空端采用油润滑陶瓷球轴承，高真空端配备永磁径向轴承，搭配新型高性能润滑剂，实现长达五年免维护运行。润滑油连续过滤系统大幅降低维护成本，而紧凑轻量化机身（比同类产品更小更轻）可轻松集成至便携式设备，满足移动真空需求。

设备搭载带自动配件识别的 micro-USB 接口，三步即可完成启动，TC 80 集成驱动单元兼容 DN 40/63 ISO-KF/CF-F 等多种法兰规格，适配不同真空系统。作为清洁无油真空解决方案，其极限真空可达 10⁻⁷~10⁻¹¹ Pa，抽速性能优异，尤其适合半导体制造、光学镀膜等对洁净度要求严苛的场景。