实验室超高真空腔体系统

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下一条： 普发真空（Pfeiffer Vacuum）真空设备控制器

关键词：实验室超高真空腔体系统

摘要

实验室超高真空腔体系统 
实验室超高真空腔体系统采用优质不锈钢材质，整体真空精密焊接工艺，搭配金属密封结构，漏率低、稳定性强。设备可搭载分子泵机组，支持超高真空环境，可选配样品过渡仓，实现不破真空换样。支持加装加热、低温、位移驱动等模块，支持多规格定制，耐高温耐腐蚀，广泛适用于真空镀膜、材料测试、科研实验等场景。

产品介绍

实验室超高真空腔体系统

本套超高真空腔体系统采用 304 不锈钢镜面抛光腔体，金属 CF 法兰密封，焊接工艺精密，整机漏率优异。多接口多路法兰布局，预留丰富观测、进气、检测点位，集成真空测量仪表与真空阀门，搭配分子泵 / 离子泵机组。可按需定制尺寸，耐高温耐腐蚀，真空度可达超高真空区间，适配科研实验、薄膜制备、表面分析等场景，支持不破坏真空完成样品更换，运行稳定可靠。

实验室超高真空腔体系统

PLD 脉冲激光沉积系统

PLD 脉冲激光沉积系统为科研薄膜制备专用设备，整机集成不锈钢多通真空腔体、真空机组与独立电控柜，搭载长行程样品传样机构，可在不破坏真空状态下更换样品。腔体采用精密真空焊接，CF 金属密封，极限真空性能优异，支持样品加热与多路气路调控。设备模块化设计，可按需拓展功能，运行稳定，适用于氧化物、功能薄膜生长，广泛用于高校实验室、材料科研领域。

实验室超高真空腔体系统

超高真空实验系统

超高真空实验系统配置单台分子泵，极限真空可达 10⁻⁷Pa，自带样品过渡仓，可在不破坏腔体真空下完成样品取放。支持选配加热、低温、各类真空驱动模块，满足镀膜、高低温测试及样品位移调节。采用真空焊接工艺，经精密检漏，耐高温耐腐蚀，支持定制。三维建模一对一设计，方案阶段免费，腔体可选多类材质，漏率达标，多种表面工艺可选，适配科研真空腔体、真空探针台等项目。

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